弗侖斯系統股份有限公司

．微影製程技術
．濕式製程技術
．薄膜製程技術
．乾蝕刻製程技術
．製程分析設備

乾蝕刻製程技術

◆ 反應式離子乾蝕刻機台: ULVC 3000 乾蝕刻機 Gas system: SF6, CF4 製程: • Silicon oxide etch • Silicon nitride etch • Polymer discumm
◆ 感應耦合電漿反應式離子矽深蝕刻機台: STS ICP RIE Gas system: SF6, C4F8, Ar, O2 製程: • Deep Silicon etch • Bosch process
◆ 光阻灰化機台: B.C. Asher Gas system: N2, O2 製程: • 光阻灰化

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